本书是作者近年来在对新型低维材料的电子结构、磁特性及相变的研究基础上撰写而成的，系统地介绍了应力、吸附、掺杂等调控方法对几种典型低维材料的电子性质及磁性的影响。全书共8章，第1、2章介绍了相关材料的研究背景及理论方法，第3章介绍了磷烯在应力作用下电子结构的变化，第4、5章介绍了杂质原子吸附对硅烯电学和磁学性质的影响，第6～8章研究了不同种类的吸附物质对二硫化钼性质的影响。 本书可供相关低维材料领域的科技工作者参考，也可作为高等院校相关专业的本科生和研究生的参考书。
内容简介
前言
第1章 绪论
1.1 石墨烯的研究进展
1.2 二维过渡金属硫属化合物简介
1.3 硅烯的研究进展
1.4 磷烯的研究进展
1.5 其他二维纳米材料
参考文献
第2章 理论方法
2.1 能带理论的三大近似
2.2 势与波函数的处理
2.3 Kohn-Sham方程的自洽求解
参考文献
第3章 应力作用下多层磷烯的相变
3.1 概述
3.2 平面双轴应力对多层磷烯的影响
3.3 垂直压缩应力对多层磷烯的影响
参考文献
第4章 吸附对硅烯电子性质的影响
4.1 概述
4.2 计算模型和方法
4.3 不同浓度的吸附原子对硅烯的影响
参考文献
第5章 局部氢化硅烯中奇异的d0磁性
5.1 概述
5.2 计算模型和方法
5.3 局部氢化硅烯的磁性及热稳定性
参考文献
第6章 过渡金属原子的取代掺杂对单层MoS_2性质的影响
6.1 概述
6.2 计算模型和方法
6.3 TM-MoS_2的性质研究
6.4 O_2吸附于TM-MoS_2
参考文献
第7章 CO和NO吸附对金属元素掺杂的单层MoS_2电子性质的影响
7.1 概述
7.2 计算模型和方法
7.3 CO和NO吸附于金属掺杂的单层MoS_2表面
参考文献
第8章 基于单层MoS_2的甲醛气体检测器
8.1 概述
8.2 计算模型和方法
8.3 Cl、P和Si原子掺杂的单层MoS_2的性质研究
8.4 甲醛分子在MoS_2表面的吸附
参考文献
